Schдfer N., Alff L., Major M., Karabas N., Palakkal J.P., Petzold S., Pietralla N.
Ключевые слова: LTS, Nb3Sn, fabrication, thin films, magnetron sputtering, substrate Si, critical temperature, critical caracteristics, critical current density, shielding effects, X-ray diffraction, resistive transition, microstructure, magnetization
J Applied Physics, 2020, v.128, N 13, p.133902
Полный текст на Sci-Hub
Дополнительная информация
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ruТехническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.